หลักการเคลือบฟิล์มบางคอปเปอร์ไดออกไซด์ ด้วย เทคนิคอาร์แอฟสปัดเตอริง

กระทู้คำถาม
อยากทราบหลักการเคลือบฟิล์มบางโดยเทคนิค อาร์แอฟ สปัดเตอร์ริง กับเทคนิค อาร์แอฟ แมกนีตรอนสปัดเตอร์ริ่ง และเทคนิคอาร์เอฟ รีแอคทีบแมกนีตรอนสปีดเตอร์ริ่ง ว่ามันเหมือนกัน หรือต่างกันอย่างไรคะ ช่วยบอกเป็นภาษาพูดให้เข้าใจง่ายทีคะ ขอบคุณนะคะ
แสดงความคิดเห็น
โปรดศึกษาและยอมรับนโยบายข้อมูลส่วนบุคคลก่อนเริ่มใช้งาน อ่านเพิ่มเติมได้ที่นี่